Thermico CPF2 Pulverförderer. -

Der Thermico CPF2-Pulverförderer kann verschiedenste Pulvertypen mit hoher Präzision dosieren und fördern:

– typische Standardpulver >15µm – plasma-sphäroidisierte hartmetallische Pulver <15µm und <6µm – plasma-sphäroidisierte oxidkeramischer Pulver <5µm-

Immer gekapselt als Schrank und damit staubsicher gebaut wird er in angepassten Versionen für das Plasma-, Pulverflamm- und HVOF-Beschichten ausgerüstet.

Der CPF2-Pulverförderer arbeitet volumetrisch mit einer Förderscheibe, die das Pulver mit hoher Präzision in den Trägergasstrom dosiert und zum Brenner transportiert. Das integrierte Waagemodul macht ihn zu einem gravimetrischen Förderer, der Pulver mit äußerster Präzision (±2%) dosiert.

Minimale Dosiermengen betragen für den Standardförderer 5,0 g/min und für den Low Amount Feeder: 0,5 g/min

Die leicht austauschbaren Pulverbehälter sind einfach zu reinigen und können mit zwei Standard- und zwei Sonder-Förderscheiben ausgerüstet werden. Vier verschiedene Behältervolumen stehen zur Auswahl – 0,5 – 3,5 – 5 – 10l -. Zur Überwindung der schlechten Fließeigenschaften mikrofeiner Pulver <10 μm werden die Pulverbehälter mit einer oder zwei Vibrationseinheiten ausgestattet.

Container- und Trägergasheizung sowie ein Vakuumsystem schützen das Pulver vor Feuchtigkeit und vermeiden unerwünschte Pulveragglomerationen. Sie stehen optional als Module zur Auswahl.

Der Trägergasstrom wird über Massenflussregler mit einer Genauigkeit von ±2% vom Einstellwert geregelt. Der Einsatz der gravimetrischen Regelung über den Regelkreis Waage-Förderscheibe erlaubt zudem eine besonders konstante Fördergas-Zufuhr und erzielt eine höhere Genauigkeit. Die Anforderungen für Klasse-A-Anlagen nach DIN 1395 werden übertroffen.

Der CPF2-Pulverförderer von Thermico ist in zwei Ausführungen erhältlich: Als Remote-Gerät, das für die Integration in ein übergeordnetes Steuersystem ausgelegt ist – angekoppelt an eine SPS oder PC über analoge Schnittstelle oder Datenbus. Oder als Stand Alone Version, die über eine eigene Steuerung und ein Bedienpanel mit 7,4“ Touchscreen verfügt.

Prinzip CPF
Prinzip CPF
Main screen
Main screen
Main input GPM
Main input GPM
Container select
Container select
Trend CPF
Trend CPF

Trendanzeige für alle Parameter

Einstellungen CPF
Einstellungen CPF

Die Genauigkeit der Förderung bildet die Grundlage, maßgenaue Beschichtungen zu erzeugen.
CPF2-Pulverförderer von Thermico erfüllen in exzellenter Weise die speziellen Qualitätsanforderungen der Luftfahrtindustrie.